当前位置: 首页 > 文章 > 日光温室小型西瓜一绳双蔓高产栽培技术 蔬菜 2014 (3) 44-45
Position: Home > Articles > 日光温室小型西瓜一绳双蔓高产栽培技术 Vegetables 2014 (3) 44-45

日光温室小型西瓜一绳双蔓高产栽培技术

作  者:
周永香;崔永恒
单  位:
北京市通州区农业技术推广站
关键词:
日光温室;小型西瓜;一绳双蔓;高产
摘  要:
应用一绳双蔓栽培技术,可有效提高种植密度,提高日光温室光热资源利用率。在行距70 cm情况下,一绳双蔓栽培较双绳双蔓栽培株距由50 cm降至30 cm,667 m2种植密度由2 380株提高到3 170株。每667 m2可多定植790株,单瓜质量在1.6 kg左右,667 m2可增加西瓜产量1 200 kg以上,增收6 000元左右。

相似文章

计量
文章访问数: 6
HTML全文浏览量: 0
PDF下载量: 0

所属期刊

推荐期刊