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当前位置: 首页 > 文章 > Ni-P-SiC复合镀工艺的优化 中国农业大学学报 2002,7 (4) 39-42
Position: Home > Articles > Optimization of Technology of Ni-P-SiC Composite Deposit Journal of China Agricultural University 2002,7 (4) 39-42

Ni-P-SiC复合镀工艺的优化

作  者：
胡三媛;关永峰;徐方超
单  位：
中国农业大学机械工程学院
关键词：
化学镀;NiPSiC复合镀;正交设计法;工艺优化
摘  要：
为进一步提高镍磷镀层的耐磨性 ,在普通镍磷化学镀的基础上 ,进行了 Ni P Si C复合镀及磨损试验。用正交设计法对影响复合镀工艺的主要因素 ,活性剂、Si C、温度、p H值和稳定剂进行了优化 ,同时就各因素对镀层耐磨性的影响进行了分析 ,得出了一组最佳 Ni P Si C施镀工艺参数 :活性剂 0 .15 g.L-1,Si C12 .5g.L-1,施镀温度 90℃ ,p H值 4 .6 ,稳定剂 0 .5 5 mg.L-1。试验验证结果表明 ,该工艺稳定 ,获得的镀层光亮、致密、耐磨性好。
译  名：
Optimization of Technology of Ni-P-SiC Composite Deposit
作  者：
Hu Sanyuan, Guan Yongfeng, Xu Fangchao (College of Machinery Engineering, China Agricultural University, Beijing 100083, China)
关键词：
chemical plating; composite deposit NiPSiC; orthogonal design; optimum
摘  要：
To strengthen the wear resistance of the NiP deposit layer, on the base of general NiP chemical deposit, the NiPSiC composite deposit and its wear resistance tests were carried out. By using the orthogonal design method, the optimum combination of the main factors - active agent,SiC,temperature, pH value and stable agent, etc by which the composite deposit technique will be effected-has been found. The effects on the deposit layer wear resistance of those factors were analyzed. The optimum technical alternative is active agent: 0 15 g·L -1 ,SiC 12 5 g·L -1 ,temperature 90 ℃, pH value 4 6 and stable agent 0 55 mg·L -1 . The test results showed that technique is stable and the deposit layer is bright, fine and has good wear resistance.

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